(2010.06.18)
平成22年度 戦略的基盤技術高度化支援事業に採択されました!
弊社の『難めっき樹脂素材へのエッチングレスめっき技術及びその量産技術の開発』プロジェクトが、平成22年度 戦略的基盤技術高度化支援事業(通称:サポイン事業)に採択されました。

■研究開発の要約
電子部品の随所に使用されている難めっき樹脂素材であるポリイミドやエポキシ樹脂に対し、エッチング等の表面処理を行わずに高密着性を実現する無電解めっき技術とその量産化技術の開発を行う。本技術が確立されることにより、ダイレクト処理による小型電子部品への電磁波シールド性の付与、フレキシブルプリント配線基板の高集積化、CSP(チップサイズパッケージ)のダウンサイジングが可能となる。  


めっき(メッキ)加工/表面処理:株式会社ケディカ

【閉じる】